12月15日音书本多由奈最新番号，据BusinessKorea报导，韩邦原土的半导体和披露材料开荒商——石墨烯实验室 (Graphene Lab) 开荒出了基于石墨烯制造的EUV光罩保护膜 (Pellicle) ，有望显赫升迁ASML的极紫外光 (EUV) 系统出产芯片的良率。

据了解，光罩保护膜是一种薄膜，可保护光罩名义免受空气中微分子或浑浊物的影响，这关于 5nm或以下节点制程的先进制程技能的良率施展至关蹙迫。

另外，光罩保护膜亦然一种需要依期更换的忽地品，而由于EUV光刻诞生的光源波长较短，因此护膜需要较薄厚度来加多透光率。

之前，硅已被用于制造光罩护膜，但石墨烯会是一种更好的材料，因为石墨烯制造的光罩保护膜比硅更薄、更透明。

报导还强调，EUV光罩护膜必须约略承受曝光历程中发生的 800 度或更高的高温，而基于石墨烯材料的光罩保护膜在高温下的硬化特质要好，比较之下硅制居品很是容易翻脸。

Graphene Lab首席履行官Kwon Yong-deok 暗示，“光罩护膜畴昔是由硅制成的，但咱们使用了石墨烯，这关于使用 ASML 的 EUV光刻诞生诞生的半导体企业来说，石墨烯光罩保护膜将成为晶圆制造良率的鼓动助力。咱们也曾准备好进行量产。”

Graphene Lab 指出，一朝石墨烯 EUV 光罩护膜受到秉承，估量众人光罩保护膜阛阓到 2024 年将达到1万亿韩元（约合东说念主民币53.15亿元）的情况下，将有其极大商机。包括台积电、三星电子、英特尔等头部半导体制造企业齐将会是 Graphene Lab 的潜在客户。

值得属宗旨是，本年早些时代，上游原材料供应商3M公司由于环保问题关闭了其位于比利时的工场，使得有关原材料价钱高涨，再加上光罩保护膜厂商之间的消亡导致有关居品出产放缓，以及阛阓需求增长，导致了光罩保护膜供应弥留、价钱高涨。

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